दो गेट सीलिंग सतह हैं, दो वेज बनाने के लिए गेट वाल्व सीलिंग सतह का सबसे आम तरीका, वेज कोण वाल्व पैरामीटर के साथ भिन्न होता है, आमतौर पर 50, मध्यम उच्च तापमान 2 ® 52 * नहीं होता है।वेज गेट वाल्व को एक संपूर्ण बनाया जा सकता है, जिसे कठोर गेट कहा जाता है;इसकी प्रक्रिया में सुधार करने के लिए, प्रसंस्करण के दौरान उत्पन्न होने वाली सीलिंग सतह के कोण विचलन को पूरा करने के लिए, गेट के छोटे विरूपण उत्पन्न करने के लिए भी बनाया जाता है, इस गेट को लचीला गेट कहा जाता है।
उत्पादों की इस श्रृंखला में निम्नलिखित विशेषताएं हैं:
1. वाल्व बॉडी अस्तर प्रक्रिया आवश्यकताओं के लिए उपयुक्त संरचनात्मक मॉडलिंग को अपनाती है;वाल्व बॉडी की आंतरिक गुहा, वाल्व कवर और गेट, वाल्व स्टेम की बाहरी सतह और माध्यम के सीधे संपर्क में आने वाले अन्य हिस्से, सभी एफईपी (एफ46) या पीसीटीएफई (एफ3) और अन्य फ्लोरीन प्लास्टिक से ढके हुए हैं;
2. छोटे द्रव प्रतिरोध, क्षरण चोंग ब्रश मध्यम और छोटे द्वारा सीलिंग सतह
3.अधिक प्रयास से खोलें और बंद करें।
4.मीडिया प्रवाह अप्रतिबंधित, नॉन स्पॉइलर दबाव को कम नहीं करता है।
5. एक सरल संरचना, छोटी लंबाई, अच्छी विनिर्माण प्रक्रिया, की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए लागू।
6. माध्यम दोनों तरफ से किसी भी दिशा में गेट वाल्व से गुजर सकता है, जो पाइपलाइन पर खोलने और बंद करने वाले उपकरण के लिए उपयुक्त है जहां माध्यम की दिशा बदल सकती है।
7. उच्च रासायनिक स्थिरता के साथ पीएफए/एफईपी अस्तर, "पिघली हुई क्षार धातु और तत्व फ्लोरीन" को छोड़कर किसी भी अन्य मजबूत संक्षारक मीडिया पर लागू किया जा सकता है।
| डिज़ाइन मानक | जीबी/टी12234 एपीआई600; |
| अंत-से-अंत आयाम | जीबी/टी12221 एएसएमई बी16.10 एचजी/टी3704; |
| निकला हुआ किनारा मानक | जेबी/टी79 जीबी/टी9113 एचजी/टी20592 एएसएमई बी16.5/47; |
| कनेक्शन का प्रकार | निकला हुआ किनारा कनेक्शन |
| जांच और परीक्षण | जीबी/टी13927 एपीआई598 |
| नॉमिनल डायामीटर | 1/2＂~14＂ DN15~DN350 |
| सामान्य दबाव | पीएन 0.6 ~ 1.6एमपीए 150एलबी |
| मोड ओड ड्राइविंग | मैनुअल, इलेक्ट्रिक, वायवीय |
| तापमान की रेंज | पीएफए(-29℃~200℃) पीटीएफई(-29℃~180℃) एफईपी(-29℃~150℃) जीएक्सपीओ(-10℃~80℃) |
| लागू माध्यम | प्रबल संक्षारक माध्यम अर्थात हाइड्रोक्लोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड, तरल क्लोरीन, सल्फ्यूरिक एसिड और एक्वा रेजिया आदि। |
